一、500立方工業氣體純化設備原理和用途:
本裝置是以工業普氮為原料,經加氫催化除氧,冷凝和吸附兩級干燥及塵埃過濾,除去氮中的雜質氧、水汽和塵埃顆粒等,從而獲得高純度的氮氣??蓮V泛用于電子、冶金、化工、浮法玻璃等需要高純氮的工業部門中。
二、500立方工業氣體純化設備工藝流程:
原料氮氣(經原氮進口閥)與添加氫氣(經加氫進口閥,氫氣流量計后)相混合,然后進入除氧器,在催化劑的作用下,使氮氣中雜質氧與氫反應生成水汽,除氧器工作溫度控制在80~100℃,使催化反應生成的水汽能全部被氣體帶走,同時催化劑不致受到水汽影響而中毒,可無需再生處理長期使用。
氮氣除氧后,經過水冷卻器冷卻、冷干機冷凝干燥和汽水分離器除去氣體中冷凝下來的冷凝水。氮氣冷凝除濕后,進入分子篩吸附干燥器深度干燥,產品氮再經氣體過濾器除塵后由純氮出口送使用點。
吸附干燥器由兩組并聯,一組工作,另一組可同時再生。吸附干燥器在常溫下工作,一般至少可在額定氣量下連續工作24小時。吸附干燥器再生時送入部分純氮氣并將吸附器加熱至150℃,恒溫5~8小時,然后讓吸附器吹冷備用。